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微波等離子清洗機(jī)

/ Microwave Plasma Treatment System

針對(duì)半導(dǎo)體行業(yè)涉及的PLASMA處理及性能檢測(cè)整體解決方案

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實(shí)驗(yàn)型微波等離子去膠機(jī)

可做到聚合物去除、氧化硅或碳化硅刻蝕、刻蝕后表面清潔

RIE Plasma等離子去膠機(jī)

可有效去除表面殘留物、介質(zhì)與介質(zhì)間光阻去除

ICP干法等離子去膠機(jī)ST-3100

可BAW/SAW工藝中的光阻去除，配備單腔雙腔兩種類型

SPV-24M微波在線片式真空等離子清洗機(jī)

專門針對(duì)半導(dǎo)體行業(yè)的微波在線片式真空等離子清洗機(jī)，針對(duì)半導(dǎo)體芯?粘接前處理、塑封前處理、光刻膠去除、?屬鍵合前處理。等離子體不帶電，不對(duì)精密電路造成損害，采用磁約束方式，可兼容微波結(jié)和磁路。

SPMV-100H腔體式微波真空等離子清洗機(jī)

自由基分子的等離子體無(wú)偏壓，不會(huì)對(duì)產(chǎn)品有電性損壞，去膠速率高

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可做到聚合物去除、氧化硅或碳化硅刻蝕、刻蝕后表面清潔

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可有效去除表面殘留物、介質(zhì)與介質(zhì)間光阻去除

ICP干法等離子去膠機(jī)ST-3100

可BAW/SAW工藝中的光阻去除，配備單腔雙腔兩種類型

SPV-24M微波在線片式真空等離子清洗機(jī)

SPMV-100H腔體式微波真空等離子清洗機(jī)

自由基分子的等離子體無(wú)偏壓，不會(huì)對(duì)產(chǎn)品有電性損壞，去膠速率高

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實(shí)驗(yàn)型微波等離子去膠機(jī)

可做到聚合物去除、氧化硅或碳化硅刻蝕、刻蝕后表面清潔

RIE Plasma等離子去膠機(jī)

可有效去除表面殘留物、介質(zhì)與介質(zhì)間光阻去除

ICP干法等離子去膠機(jī)ST-3100

可BAW/SAW工藝中的光阻去除，配備單腔雙腔兩種類型

SPV-24M微波在線片式真空等離子清洗機(jī)

SPMV-100H腔體式微波真空等離子清洗機(jī)

自由基分子的等離子體無(wú)偏壓，不會(huì)對(duì)產(chǎn)品有電性損壞，去膠速率高

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可做到聚合物去除、氧化硅或碳化硅刻蝕、刻蝕后表面清潔

可有效去除表面殘留物、介質(zhì)與介質(zhì)間光阻去除

可BAW/SAW工藝中的光阻去除，配備單腔雙腔兩種類型

自由基分子的等離子體無(wú)偏壓，不會(huì)對(duì)產(chǎn)品有電性損壞，去膠速率高