全自動(dòng)雙腔RTP快速退火爐:雙腔結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì),有效提高退火效率
2024-07-09
傳統(tǒng)的爐管退火工藝因升溫速率緩慢,加熱時(shí)間長(zhǎng),晶片在長(zhǎng)時(shí)間受熱的情況下會(huì)出現(xiàn)雜質(zhì)擴(kuò)散嚴(yán)重等問(wèn)題。隨著芯片制造技術(shù)的不斷進(jìn)步,對(duì)退火工藝的要求也越來(lái)越高,RTP快速退火爐的競(jìng)爭(zhēng)優(yōu)勢(shì)越來(lái)越明顯:具有獨(dú)特的水平均溫處理技術(shù),在退火過(guò)程中,不僅能在極短的時(shí)間內(nèi)實(shí)現(xiàn)升溫和冷卻,提升晶圓退火的效率和效果,還能同時(shí)保證晶圓表面的溫度分布均勻性和穩(wěn)定性,總體熱預(yù)算較低,可以更好地提高晶圓的性能,滿(mǎn)足先進(jìn)半導(dǎo)體的制造需求。
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